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COMPOSICION PARA LA PULIMENTACION MECANICA-QUIMICA DE CAPAS DE UN MATERIAL AISLANTE A BASE DE UN POLIMERO CON UNA BAJA CONSTANTE DIELECTRICA.


Resumen: Una composición para la pulimentación mecánica- química de una capa de un material aislante a base de un polímero con una baja constante dieléctrica, caracterizada dicha composición de pulimentación por comprender una solución acuosa ácida de sílice coloidal cationizada que contiene partículas de sílice coloidal individualizadas no enlazadas entre sí por enlaces siloxano.

Solicitante: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED.

Nacionalidad: Islas Vírgenes (Británicas)

Inventor/es: JACQUINOT, ERIC. LETOURNEAU, PASCAL. RIVOIRE, MAURICE

Fecha de Publicación de la Concesión: 01/03/2005

Fecha Concesión Europea: 28/07/2004

Clasificación Principal: C09K3/14, C09G1/02, H01L21/3105

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